Pluto-Atmos是一種基于頻率為13.56MHz(射頻)等離子體技術的新型表面涂覆設備。
是一種強大的新涂層工藝,利用大氣壓等離子體設備在任何大小或形狀的樣品上通過掃描的方式獲得均勻的涂層。
Pluto-Atmos可以沉積多種材料涂層,包括碳基和硅基聚合物、玻璃、氮化硅、金屬氮化物和碳化物等。
這些涂層的厚度從50nm到3.0um不等,可用于防潮,耐磨、防腐蝕和許多其他應用。
等離子體中的電子(不是熱量)激發反應物進行沉積,使涂層過程在相對較低的溫度下進行。
薄膜生長速率從0.1um/分鐘到10.0um/分鐘不等。
需要注意的是,常壓等離子體涂覆的速率比物理氣相沉積要慢。
然而,正因為許多材料不易蒸發或濺射,在這個時候,等離子涂層是一個比較理想的方法。