等離子清洗機
在實際生產和實驗中,等離子清洗設備一些重要的部件會隨著使用時間的推移產生不同程度的氧化、老化、腐蝕等問題,會是引起等離子清洗設備達不到除膠效果的原因,
例如反應腔、電極、托板架、氣體的壓力等。以下介紹了幾個關鍵部位保養前后的效果以及如何進行保養。
腔體的清潔
1.等離子清洗機除膠時產生的污物大部分都接近電子級別,會隨著真空泵排除。但也會有一些大顆粒污染物產生。這些大顆粒污物會附著在腔壁、電極和托板架上。
腔壁上有一層薄薄的“灰”,腔底掉落更嚴重。
2.對于腔壁用不可掉落的毛刷清潔使顆粒粉塵異物在腔壁脫落,用吸塵機將污物吸出。用脫脂布沾酒精擦拭,其次腔體導入N2和O2,用等離子體清除腔體內殘余
物,工作10min。
電極與托板架的保養
1.托板架和電極長時間使用后會附著氧化層,同時采用等離子體處理烴基材料時,一段時間后在托板架、電極,RF導電桿上會積累一層薄的烴基殘留物,這些殘留物和
氧化層是無法用酒精擦拭掉的。應依據附著物的量對電極、托板架進行翻新維護能保證除膠的穩定。
2.清洗材料要求:氫氧化鈉、硫酸、城市用水和蒸餾水。注意:不要使用手磨機、砂紙或磨蝕性噴砂處理等機械方法清潔;氫氧化鈉溶液會與鋁發生劇烈的化學反應,
應小心謹慎以確保僅在所需的時間內清除沉積物;反應中會生成具有潛在爆炸性的氫氣,因此工作區域應保持良好的通風。
將拆下的電極沉浸在10%的氫氧化鈉溶液內。在沉浸時每2 min檢查電極一次,直到徹底除 去殘留物。實際清潔時間取決于積累在每個電極上的殘留物數量。用城市用水徹
底沖洗電極3分鐘。
將電極浸在硫酸和水(按重量為 5%)的溶液中一分鐘(不能干燥)后,立即進入下一步操作(這一步主要去除氧化層,干燥以后氧化層會再次附著,難以沖洗)用蒸餾水
沖洗電極兩次,每次3 min。使電極徹底干燥 。
定期保養計劃
等離子設備在使用過程中,腔體內出現的一些殘留物和氧化層,在前期發展階段,該薄層并不影響設備的運行或成品。但是經過持續的運轉后,發現了除膠效果不穩定,能
察覺到微小改變,所以在使用一段時間之后是需要將托板架與電極進行清洗翻新。
同時設備出現的故障也直接體現設備的保養的程度。如經適當的維修、翻新,電極的使用壽命可達到預期使用的最大值。那么通過等離子清洗設備的原理和構成制定可行性
保養計劃很關鍵。
等離子設備的三大條件是真空環境(真空機組,真空檢測儀,腔體的密閉)、高能量(射頻電源、溫度、工藝氣體)和介質(腔體、電極、托板架)組成。那么等離子設備
的保養應從以上這些方面進行,根據保養項目劃分周期分為每日、每周、每月、半年、每年、2~3年。